超聲波清洗機原理主要是通過換能器，將功率超聲頻源的聲能轉(zhuǎn)換成機械振動，通過清洗槽壁將超聲波輻射到槽子中的清洗液。由于受到超聲波的輻射，使槽內(nèi)液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動。破壞污物與清洗件表面的吸附，引起污物層的疲勞破壞而被駁離，氣體型氣泡的振動對固體表面進(jìn)行擦洗。它利用的是液體中超聲波的空化效應(yīng)對物體表面污染物進(jìn)行破壞撞擊，有的應(yīng)用還需輔助化學(xué)清洗劑，從而達(dá)到清洗目的。

　　等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體與清洗物的表面污染物發(fā)生反應(yīng)并灰化，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

　　等離子清洗機的應(yīng)用，起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟和人類文明影響大，*電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

　　所以當(dāng)需要對精密產(chǎn)品或者不適合液體清洗產(chǎn)品進(jìn)行清洗時推薦微波等離子清洗機，而允許液體清洗的應(yīng)用則可以權(quán)衡考慮是選擇超聲波清洗機還是等離子清洗機。有的工藝應(yīng)用甚至是前一工段進(jìn)行超聲波清洗，后一工段緊接著是等離子清洗。兩者沒有誰好誰壞，只是要選擇符合工藝要求的清洗方式而已。